芯片良率杀手?0.1微米的污染物就能让整片晶圆报废!

当台积电的工程师发现某批5nm芯片良率骤降15%时,追查结果令人震惊——问题竟出在清洗环节!原来有批清洗设备用的超纯水混入了0.1微米级的微粒。现在连空气中的PM2.5都比这个污染物大25倍!
三种清洗技术实测:韩国工厂靠这个方法省下3亿成本
• 湿法清洗:就像用高压水枪冲车,成本最低但废水处理让人头疼。中芯国际去年因此多支出了2.8亿环保费用
• 气相清洗:类似干洗店原理,特别适合3D NAND芯片的深孔结构。三星的128层闪存产线全靠它撑场
• 超临界CO2:听起来像黑科技?其实就像用液态二氧化碳当洗洁精,无锡某厂试用后能耗直降40%
下一代清洗黑科技:用纳米泡泡给芯片做SPA?
东京电子最新研发的纳米气泡技术,把清洗时间从90分钟压缩到23分钟!原理就像用万亿个微型按摩器震落污垢。更绝的是中科院开发的「液态金属」清洗剂,表面张力比水还低70%,连原子层级的残胶都能搞定。
疯狂扩张的清洗市场:中国这个城市要成全球新中心?
合肥长鑫存储周边,去年突然冒出12家清洗设备供应商!全球市场正在以17%的年增速狂奔,而中国贡献了其中的43%增长。最夸张的是某深圳企业,靠自主研发的超声波清洗机,一年就抢下台积电15%的订单量!
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